应用与常识
| 1，什么是掩膜版？ | 掩膜版来自于英文Mask，IC行业称Reticle，中文称呼还有光罩，光掩膜，光刻掩膜版，掩膜板或掩模板等。 掩模版作为图形信息的载体，主要分两个组成部分，基板和不透光材料。通过曝光过程将图形转移到被曝光产品表面（硅片，导电玻璃，铜箔等材料），从而实现图形的转移。 常见的光掩膜版有三种：铬版(chrome)、干版，菲林。 铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层，应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶，硬度小且易吸附灰尘，不过干版还有包膜和超微颗粒干版，其中后者可以应用于芯片制造，菲林通常用于大面积精度较低的场合使用。 |
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| 2,掩膜版使用于哪些领域？ | 中低档半导体IC制造,大功率晶体管，放电管，可控硅。 显微镜,光学分划版,分度线，标尺线，瞄准线，编码光栅。 传感器，声表器件，微波器件，微波天线，微机械加工/微尺寸检测。 光波导与相关产品，平面电感，电容。 自动化:汽车电子,起重机称重传感器。 消费行业:冰箱制造（制冷器）,电视机IC电路,应变片,等。 |
| 3,制版常用的图形格式？ | dwg/dxf,exb,cdr/ai,tdb,CIF,GDSII等矢量格式 或根据客户设计意图提供CAD设计服务或全套流程工艺。 |